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三室真空熔煉爐 真空熔煉爐 真空霧化制粉爐
真空熱處理爐
Vacuum heat treatment furnace
所屬分類:
關鍵詞:
真空熱處理爐

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真空熱處理爐
1.主要用途:
系列真空氣氛熱處理爐廣泛用于高校、科研院、所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想的設備。并可對爐內通入熱處理工藝要求的氣體進行材料處理(例如充入氫氣、氮氣或者其它所需氣體)。
引進國外先進的技術,自主研發生產的節能、環保、新型高溫節能真空熱處理爐。具有先進合理的結構,外觀美觀大方,表面采用環保氧化粉末進行靜電噴塑進行高溫作業,從而達到經久耐用、不掉色、耐高溫、耐腐蝕的表面處理。
2.技術特點:
采用微電腦智能調節技術,具有PID調節、全自動控制、自整定功能;多段程序編程,并可控制各種升溫、保溫、降溫程序;功率調節;控溫精度高;集成模塊可控硅控制、移相觸發。獨立超溫保護、超壓、超流、漏電、短路等保護,自動化程度較高,各項指標達到國際先進水平。
可選配無紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫面通訊聯機功能,多臺設備一臺電腦控制,打印與保存數據,實現操作簡單方便,隨時可查看保存數據。
3.技術指標:
項目 |
單位 |
熱場有效尺寸 |
|||
爐膛尺寸 |
mm |
200*150*150 |
300*200*200 |
300*300*500 |
500*500*800 |
溫度類別 |
℃ |
600℃、800℃、1000℃、1200℃、1400℃、1700℃、1800℃、2200℃、 |
|||
控溫精度 |
℃ |
±1℃ |
|||
溫度均勻度 |
℃ |
±3-5℃ |
|||
加熱方式 |
根據使用溫度選定,可采用電阻加熱或感應加熱二種方式。 |
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